光刻機概念股市場龍頭股一覽，光刻機概念股定義：光刻機被譽為半導體制造業皇冠上的明珠，掌握光刻機制造技術是發展國產芯片的關鍵。光刻機概念股上市公司股票有53家。那么，光刻機概念股市場龍頭股一覽，本文詳細分析。

光刻機概念股龍頭一覽表：

1、南大光電300346：5月28日盤后最新消息，收盤報：26.56元，漲幅：0.11%，摔手率：10.2%，市盈率（動）：43.94，成交金額：140936.06萬元，年初至今漲幅：-3.66%，近期指標提示MACD金叉。概念解析： 21年3月在互動平臺表示，公司自主研發的ArF光刻膠產品成功通過客戶的使用認證，成為通過產品驗證的第一只國產ArF光刻膠。近日拿到首個訂單，擬進行小批量生產，目前尚未簽署大批量訂單。

2、廣信材料300537：5月28日盤后最新消息，收盤報：16.83元，漲幅：-0.77%，摔手率：21.55%，市盈率（動）：56.38，成交金額：52344.95萬元，年初至今漲幅：-14.22%，近期指標提示EXPMA金叉。概念解析：公司在互動平臺回復稱公司光刻膠項目研發正在進行中，已經有部分研發成果。

3、容大感光300576：5月28日盤后最新消息，收盤報：37.9元，漲幅：8.91%，摔手率：33.42%，市盈率（動）：77.31，成交金額：228385.56萬元，年初至今漲幅：16.07%，近期指標提示MACD金叉。概念解析：公司的光刻膠產品主要包括紫外線正膠、紫外線負膠兩大類產品以及稀釋劑、顯影液、剝離液等配套化學品，主要應用于平板顯示、發光二極管及集成電路等領域。

4、揚帆新材300637：5月28日盤后最新消息，收盤報：10.18元，漲幅：20.05%，摔手率：30%，市盈率（動）：-- ，成交金額：68985.95萬元，年初至今漲幅：-2.21%，近期指標提示MACD金叉。概念解析：2020年4月10日互動平臺顯示：公司內蒙古基地募投項目主要的光引發劑品種包括TPO、184、1173、BDK等。公司部分光引發劑產品下游可應用于光刻膠等相關領域。

5、七彩化學300758：5月28日盤后最新消息，收盤報：13.19元，漲幅：2.01%，摔手率：18.6%，市盈率（動）：62，成交金額：89431.21萬元，年初至今漲幅：30.46%，近期指標提示-- -- 。概念解析： 公司控股子公司紹興上虞新利化工有限公司“2000 噸/年光敏性中間體及 600 噸/年高性能光刻膠系列產品技改項目”目前正在安裝設備階段。

6、張江高科600895：5月28日盤后最新消息，收盤報：19.64元，漲幅：3.86%，摔手率：9.59%，市盈率（動）：63.88，成交金額：296901.91萬元，年初至今漲幅：1.76%，近期指標提示MACD金叉。概念解析：全資子公司張江浩成此次向微裝公司投資人民幣 223,450,000 元，投資完成后，張江浩成將持有微裝公司 10.779%的股權。 微裝公司是國內唯一一家研發、生產以及銷售高端光刻機的企業，也是全球第四家生產IC前道光刻機的企業。微裝公司擁有發明專利1442項，是國內工業4.0、先進制造、智能制造的典型代表。在先進封裝光刻機等領域，微裝公司的國內市場占有率超過80%，全球市場占有率為40%。

7、晶方科技603005：5月28日盤后最新消息，收盤報：18.6元，漲幅：3.85%，摔手率：10.91%，市盈率（動）：61.63，成交金額：132529.47萬元，年初至今漲幅：-15.11%，近期指標提示KDJ金叉。概念解析：荷蘭光刻機制造商ASML為公司參與并購的荷蘭Anteryon公司的最主要客戶之一。Anteryon為全球同時擁有混合鏡頭、晶圓級微型光學器件工藝技術設計、特性材料及量產能力的技術創新公司，其產品可廣泛應用于半導體精密設備、工業自動化、汽車、安防、3D傳感器為代表的消費類電子等應用領域。

8、彤程新材603650：5月28日盤后最新消息，收盤報：30.9元，漲幅：3.9%，摔手率：7.28%，市盈率（動）：32.09，成交金額：135705.95萬元，年初至今漲幅：-7.21%，近期指標提示EXPMA金叉。概念解析：公司全資子公司彤程電子受讓科華微電子33.70%的股權，已于2020年7月2日完成了相關工商變更登記。北京科華微電子成立于2004年8月，是國內唯一擁有荷蘭ASML曝光機的光刻膠公司，是集光刻膠研發、生產、檢測、銷售于一體的中外合資企業，也是國內唯一一家擁有高檔光刻膠自主研發及生產實力的國家級高新技術企業。

9、格林達603931：5月28日盤后最新消息，收盤報：23.37元，漲幅：0.56%，摔手率：4.45%，市盈率（動）：34.2，成交金額：20999.55萬元，年初至今漲幅：-8.67%，近期指標提示KDJ金叉。概念解析： 招股說明書披露：公司產品主要用于 LCD 顯示面板制造中基板上顆粒和有機物的清洗、光刻膠的顯影和剝離、電極的蝕刻等。

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